JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B Q4区

期刊收录：
SCIE

真空科学与技术学报B杂志

ISSN：
1071-1023
影响因子：
1.5
是否综述期刊：
否
是否预警：
不在预警名单内
是否OA：
否
jcr分区：
Q4区
发刊时间：
1991
发刊频率：
Bimonthly
中科院大类：
工程技术

出版信息

出版国家
UNITED STATES
出版社：
A V S AMER INST PHYSICS
数据库：
SCIE
年发文量：
155
国人发稿量：
-
自引率：
-

平均录取率:0
平均审稿周期:平均3.0个月
版面费:-
研究类文章占比99.35%
被引用占比:-
偏重研究方向:工程技术-工程：电子与电气

杂志官网投稿链接关注公众号

期刊关键词

SCIE PHYSICS APPLIED Q4 工程技术 4区物理：应用

期刊简介

Journal of Vacuum Science & Technology B emphasizes processing, measurement and phenomena associated with micrometer and nanometer structures and devices. Processing may include vacuum processing, plasma processing and microlithography among others, while measurement refers to a wide range of materials and device characterization methods for understanding the physics and chemistry of submicron and nanometer structures and devices.

《真空科学与技术杂志》B版重点介绍与微米和纳米结构和器件相关的处理、测量和现象。处理可包括真空处理、等离子体处理和微光刻等，而测量涉及广泛的材料和器件表征方法，用于理解亚微米和纳米结构和器件的物理和化学。

《JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B》期刊已被查看：次